Plazmatická aktivace povrchu

Povrch materiálů hraje klíčovou roli pro mnoho aplikací a úprava jeho povrchových vlastností obvykle začíná aktivačním procesem. Při tomto kroku se vytváří reaktivní skupiny na povrchu materiálu, tyto skupiny slouží jako upevnění pro specifické skupiny vytvářené při následujícím kroku. Moderní technologie založené na plynné plazmě mají unikátní potenciál plazmaticky aktivovat povrch, a to při splnění požadavků na rychlost, homogenitu, procesní stabilitu, efektivitu, a hlavně nulové zátěži na životní prostředí. Plazmatická aktivace povrchu aktivuje přibližně 10 nanometrů povrchové vrstvy dokonce i na velmi těžko dostupných místech a žádná jiná technologie neumožňuje takto univerzální nedestruktivní zpracování povrchu. Současné výzkumné aktivity ve společnosti CEPLANT jsou zaměřeny na plazmatické zpracování povrchů průmyslových zařízení za atmosférického tlaku. Cílem plazmatické úpravy je zlepšení povrchových vlastností materiálů pro následné zpracování, nano výrobu, pokročilé povlakování, spojování nebo tisk.

Tyto aktivity zahrnují výzkum moderních plazmatických nanotechnologií, jakými jsou plazmatická funkcionalizace povrchu, aktivace, čištění, leptání a vápenatění, které mohou být použity pro pokročilé materiály a jsou šetrné k životnímu prostředí.